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原子層沉積

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￥300萬-1000萬

產(chǎn)品規(guī)格：沉積超薄、無針孔和顆粒的膜層

公司所在地：重慶

產(chǎn)品庫存：現(xiàn)貨及定制

可供貨地區(qū)：全國

其他說明：

原子層沉積(ALD)原理是通過在工藝循環(huán)周期內(nèi)分步向真空腔內(nèi)添加前驅(qū)體、實現(xiàn)對膜層厚度的精確控制,，此區(qū)別于普通 CVD 或PECVD原理,。

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原子層沉積(ALD)原理是通過在工藝循環(huán)周期內(nèi)分步向真空腔內(nèi)添加前驅(qū)體,、實現(xiàn)對膜層厚度的精確控制,，此區(qū)別于普通 CVD 或PECVD原理。收起

品牌：
SENTECH
功能：
沉積超薄,、無針孔及顆粒的膜層
用途范圍：
納米科技,、微系統(tǒng)應(yīng)用,、器件鈍化等
重慶眺...
重慶眺望科技有限公司
聯(lián)系人：眺望科技
主營業(yè)務(wù)：美國AJA磁控濺射,，離子刻蝕,、電子束蒸發(fā)等PVD設(shè)備，先進電鍍設(shè)備,，ICP,PECVD,ALD,RIE等離子體工藝設(shè)備等,，美國Film Sense多波長橢偏儀，ATL激光器以及徠卡LEICA光學(xué)顯微鏡
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